集成电路制造过程中需要采用光刻技术，在光刻过程中，会采用光致抗蚀剂、电子抗蚀剂两种抗蚀剂产品。光致抗蚀剂即光刻胶，对波长较长的光敏感，光照后其抗蚀能力发生变化；电子抗蚀剂，对波长较短的光敏感，例如电子束、X射线等，辐照后其化学性质产生变化从而形成图形。电子束抗

集成电路 电子束 工艺 抗蚀 电子束抗蚀 2025-10-23 16:26  3